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大立光與韓三星智財權訴訟和解 與玉晶光訟案也和解

鉅亨網 鉅亨網 2016/12/1 鉅亨網記者張欽發 台北

股王大立光 (3008-TW) 與韓國三星電子的專利侵權訴訟已達成和解落幕,此一訊息今天獲得大立光證實,惟大立光主管指出,雙方的和解條件無法對外公布,但是確定對於大立光有利。

經 3 年大立光與韓三星專利訴訟案,大立光主管證實,雙方在 10 月已達成和解,而大立光尚有與玉晶光 (3406-TW) 的專利權訴訟,也在 2016 年第 3 季達成和解。

大立光執行長林恩平積極捍衛公司智慧財產權,目前與先進光 (3362-TW) 的離職員工侵害著作權與營業秘密的訴訟尚在台灣司法體系進行審理之中。

大立光早在 2013 年於美國南加州聯邦地方法院,控告三星侵權,指出 Note 相機模組侵犯大立光鏡頭組裝技術專利,今日大立光證實雙方已經和解。

大立光日 K 線圖

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